中微公司获得实用新型专利授权：“一种等离子处理装置和用于等离子处理装置的聚焦环”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种等离子处理装置和用于等离子处理装置的聚焦环”，专利申请号为CN202521687596.7，授权日为2026年10月20日。

专利摘要：一种聚焦环包括:环形的主体部和位于主体部内侧并向内延伸的延伸部，所述环形主体部具有一圆心；所述主体部具有一水平的底面，一内侧壁和一外侧壁和一上表面；主体部的上表面通过第一过渡面向下倾斜的连接到延伸部上表面，延伸部下表面包括一第二过渡面，所述第二过渡面倾斜向下连接到所述主体部的内侧壁，其中所述第二过渡面内侧到圆心的距离小于所述待处理晶圆半径。通过在延伸部下表面设置一倾斜的第二过渡面，使得过渡面存在的区域材料厚度增加，过渡面的位置选择使得延伸部上表面被快速刻蚀的区域与下方材料厚度增加的区域对应，最终使得延伸部的有效工作时间被大幅延长，大幅提高了聚焦环整体的使用寿命。

今年以来中微公司新获得专利授权133个，较去年同期增加了1.53%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了13.1亿元，同比增17.31%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了31家企业，参与招投标项目94次；财产线索方面有商标信息131条，专利信息1760条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可89个。

数据来源：企查查

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