中微公司获得实用新型专利授权：“一种气相沉积设备”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种气相沉积设备”，专利申请号为CN202522296437.0，授权日为2026年10月20日。

专利摘要：本实用新型公开了一种气相沉积设备，包括：反应腔、设置在所述反应腔内的托盘、设置在所述反应腔内且与所述托盘的上表面相对的工艺室顶盖、设置在所述反应腔顶部的腔体顶盖以及设置在所述腔体顶盖下方的调温板，所述调温板的下表面与所述工艺室顶盖之间形成有间隙，所述调温板包括与加热装置相对的中间区域和位于中间区域两侧的内侧区域和外侧区域，其中至少一个区域设置调温结构，所述调温结构用于调整所述工艺室顶盖上对应区域的温度。本实用新型的技术方案能够使得所述工艺室顶盖上的温度的均匀分布，从而提升清洁工艺的清洁效果，同时避免温差导致的应力问题，延长工艺室顶盖的使用寿命。

今年以来中微公司新获得专利授权133个，较去年同期增加了1.53%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了13.1亿元，同比增17.31%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了31家企业，参与招投标项目94次；财产线索方面有商标信息131条，专利信息1760条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可89个。

数据来源：企查查

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