中微公司获得实用新型专利授权：“用于等离子体处理设备中的气体喷淋头”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“用于等离子体处理设备中的气体喷淋头”，专利申请号为CN202521687597.1，授权日为2026年10月20日。

专利摘要：一种用于等离子体处理设备中的气体喷淋头，包括：下表面，用于面对等离子体，所述下表面为曲面，所述下表面沿所述气体喷淋头的径向由其中心向外依次包括第一下表面、第二下表面和第三下表面，其中，所述下表面的厚度沿所述气体喷淋头的径向由其中心向外满足一预设函数，所述预设函数在所述第一下表面区域的二阶导数大于0，在所述第二下表面区域的二阶导数从正转为负，在所述第三下表面区域的二阶导数小于0。所述气体喷淋头能够改善晶圆的全局刻蚀垂直度。

今年以来中微公司新获得专利授权133个，较去年同期增加了1.53%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了13.1亿元，同比增17.31%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了31家企业，参与招投标项目94次；财产线索方面有商标信息131条，专利信息1760条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可89个。

数据来源：企查查

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