东田微获得发明专利授权：“一种抗红外线和紫外线的光学镜片及其制备方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示东田微（301183）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种抗红外线和紫外线的光学镜片及其制备方法”，专利申请号为CN202311869768.8，授权日为2026年10月16日。

专利摘要：本发明提供了一种抗红外线和紫外线的光学镜片，包括：基片；设置在基片表面的增透层；设置在增透层表面的红外线吸收层，红外线吸收层包括相邻设置的第一红吸线收层和第二红外线吸收层，第一红外线吸收层和第二红外线吸收层之间包围形成有封闭式的扁平腔体；设置在腔体内部的紫外线吸收层；设置在红外线吸收层表面的硬化层。本发明还提出了一种上述抗红外线和紫外线的光学镜片的制备方法。本发明中紫外线吸收层被红外线吸收层所形成的腔体束缚、限制，不会因为软化而出现变形、移位等损坏的情况。提高了其对紫外线的吸收能力。降低了镀膜层数，相应的也改善了透光率受影响的问题。

今年以来东田微新获得专利授权8个，较去年同期增加了166.67%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了2347.05万元，同比增13.15%。

通过天眼查大数据分析，湖北东田微科技股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目14次；财产线索方面有商标信息4条，专利信息73条；此外企业还拥有行政许可6个。

数据来源：企查查

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