普达特科技（00650.HK）披露半导体设备业务发展进展，10月12日股价上涨1.0%

截至2026年10月12日收盘，普达特科技（00650）报收于0.2元，较前一交易日上涨1.0%，该股当日开盘0.21元，最高0.21元，最低0.2元，成交额达88.91万元。近52周最高0.9元，最低0.17元。

近日，普达特科技有限公司（股份代号：650）自愿刊发公告，披露半导体设备业务发展的最新进展。公告显示，自2026年3月24日公告以来，公司新增29台设备订单，其中包括14台半导体设备正式订单，涵盖单片清洗设备与炉管LPCVD设备。相关设备主要应用于12寸晶圆的高端特色工艺及第三代半导体产线，覆盖前后段工艺，包括OCTOPUS系列单片清洗设备用于背面、Solvent及RCA清洗，部分含高温硫酸清洗功能，以及CUBE单片清洗设备用于刻蚀工艺，另有LPCVD设备用于SiN薄膜沉积。所有订单均为正式订单，收入将于客户验收后确认。公司自主研发的清洗与炉管设备平台可覆盖成熟与先进制程，技术性能达国际领先水平，并已开发适用于14/7nm节点的Low-K ALD SiOCN设备。董事会确认客户及其最终实益拥有人为独立第三方。

最新公告列表

• 《半导体设备业务发展的进展》

• 《翌日披露报表》

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