捷佳伟创获得实用新型专利授权：“一种RPD镀膜设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示捷佳伟创（300724）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种RPD镀膜设备”，专利申请号为CN202521142234.X，授权日为2026年9月15日。

专利摘要：本实用新型公开了一种RPD镀膜设备，其包括：真空腔以及设置于所述真空腔内的炉膛、托盘以及空心阴极，所述炉膛，用于装载靶锭；所述托盘，设置于所述真空腔内，用于装载待镀膜基板，所述托盘与所述炉膛相对设置；所述空心阴极，设置于所述真空腔的侧部，用于向所述真空腔内发射等离子束；所述辅助阳极，设置于所述真空腔中，且设置于所述托盘朝向所述炉膛一侧的空间内，与直流电源正极相连接。本实用新型的RPD镀膜设备具有镀膜的均匀性好的优点。

今年以来捷佳伟创新获得专利授权83个，较去年同期增加了15.28%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了2.26亿元，同比减18.82%。

通过天眼查大数据分析，深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司共对外投资了19家企业，参与招投标项目102次；财产线索方面有商标信息16条，专利信息627条，著作权信息82条；此外企业还拥有行政许可126个。

数据来源：天眼查APP

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