天合光能获得实用新型专利授权：“用于单晶生产中提拉速及降氧的水冷屏和单晶炉”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示天合光能（688599）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“用于单晶生产中提拉速及降氧的水冷屏和单晶炉”，专利申请号为CN202521724542.3，授权日为2026年9月11日。

专利摘要：本实用新型涉及一种用于单晶生产中提拉速及降氧的水冷屏和单晶炉，本实用新型提出的一种用于单晶生产中提拉速及降氧的水冷屏，包括：筒体，筒体具有中空的硅棒晶体容纳空间，筒体的底部包括第一平面和第一侧面，其中，第一侧面围绕第一平面设置，第一侧面包括第一端和第二端，第一端与第一平面连接，第二端向远离筒体的中轴线的方向延伸，第一端具有第一高度，第二端具有第二高度，第一高度小于所述第二高度，其中，第一侧面和第一平面之间具有第一夹角，第一夹角为0度?20度；第一管道，第一管道包括进液管路和出液管路，用于冷却硅棒晶体容纳空间；以及第二管道，用于输入气体以降低氧气含量。

今年以来天合光能新获得专利授权349个，较去年同期减少了18.08%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了10.21亿元，同比增13.44%。

通过天眼查大数据分析，天合光能股份有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目7255次；财产线索方面有商标信息1086条，专利信息5019条，著作权信息131条；此外企业还拥有行政许可47个。

数据来源：天眼查APP

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