兴福电子获得发明专利授权：“缓冲氧化物蚀刻液及其在栅极氧化层侧壁修饰中的应用”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示兴福电子（688545）新获得一项发明专利授权，专利名为“缓冲氧化物蚀刻液及其在栅极氧化层侧壁修饰中的应用”，专利申请号为CN202311566112.9，授权日为2026年9月4日。

专利摘要：本发明提供了一种缓冲氧化物蚀刻液及其在栅极氧化层侧壁修饰中的应用，该蚀刻液包括氢氟酸、氟化铵、表面活性剂、增稠剂以及超纯水；其中表面活性剂为异构醇聚氧乙烯醚；增稠剂为对称型多元醇醚。本发明使用的表面活性剂因其特殊结构使其在含氟体系中具有良好的溶解度和分散性，同时获得低的表面张力和低泡性能，保证栅极氧化层侧壁表面的清洗效果和均一性。增稠剂由于其高粘度的特性，进一步修饰平滑侧壁形貌，抑制了侧壁的过度腐蚀。该蚀刻液可以有效抑制栅极氧化层的侧向腐蚀，同时保证侧壁的完整和平滑。

今年以来兴福电子新获得专利授权62个，较去年同期增加了113.79%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了4218.31万元，同比增7.51%。

通过天眼查大数据分析，湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目263次；财产线索方面有商标信息7条，专利信息549条，著作权信息6条；此外企业还拥有行政许可290个。

数据来源：天眼查APP

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