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广立微获得发明专利授权:“一种版图自检方法及存储设备”

证券之星消息,根据天眼查APP数据显示广立微(301095)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种版图自检方法及存储设备”,专利申请号为CN202210865534.5,授权日为2026年9月1日。

专利摘要:本发明提供一种版图自检方法,包括获取版图中的全部或部分待自检的绕线路径信息,以及预设的版图着色层规则;利用所述预设的版图着色层规则,分别对所述待自检的绕线路径的着色层信息进行自检,包括:遍历检查所述待自检的绕线路径中每个连接块的着色层是否正确,获得自检结果。采用本发明的自检方法可在自动绕线结束后对版图着色层进行快速验证,能尽早发现问题;并且对于金属层路径各种各样的连接情况,都能自动并快速验证金属层上覆盖的着色层的正确性,利于提高芯片设计效率、进一步优化工艺。本发明还提供的一种存储设备具有相应优势。

今年以来广立微新获得专利授权18个,较去年同期减少了65.38%。结合公司2026年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了1.7亿元,同比增18.01%。

通过天眼查大数据分析,杭州广立微电子股份有限公司共对外投资了20家企业,参与招投标项目48次;财产线索方面有商标信息153条,专利信息271条,著作权信息98条;此外企业还拥有行政许可58个。

数据来源:天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理,不构成投资建议。

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