钢研纳克：Plasma 3000可测定高纯碳化硅中铁、钙、铝和镁元素含量

证券之星消息，钢研纳克(300797)08月18日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。

投资者：助力半导体 ｜钢研纳克Plasma 3000提供高纯碳化硅检测新方案碳化硅（SiC）作为一种重要的高性能陶瓷材料，其纯度是决定最终应用性能的关键指标。本次测试的是高纯碳化硅（SiC≥99.9%）是电子、半导体等高端领域应用的重要材料。对材料评价与工艺改进至关重要。钢研纳克董秘在回复投资者提问时，多次否认从事半导体材料检测，可是公司文章中提到所生产仪器可进行半导体检测提供方案，为何所说前后矛盾呢？
钢研纳克董秘：答：投资者您好，Plasma 3000是公司仪器板块自研的双向观测全谱电感耦合等离子体发射光谱仪，作为一款高性能的全谱直读型多元素分析仪，具备高光通量和高紫外传输效率，搭配快速进样装置，可有效缩短分析时间。Plasma 3000可广泛应用于冶金、地质、材料、环境、食品、医药、石油、化工等各领域的元素分析。高纯碳化硅材料中（SiC≥99.9%）铁、钙、铝和镁元素含量测定是Plasma 3000众多应用领域之一，该应用方向在公司营收中占比较小，不会对公司整体经营业绩构成显著影响。感谢关注！

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