埃科光电获得发明专利授权：“一种基于线光谱共聚焦的检测方法、系统及介质”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示埃科光电（688610）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种基于线光谱共聚焦的检测方法、系统及介质”，专利申请号为CN202610536190.1，授权日为2026年7月31日。

专利摘要：本发明公开了一种基于线光谱共聚焦的检测方法、系统及介质，所述方法，包括：判断波峰的数量，若波峰数量为1，则调节峰值波长所对应的光强数值位于光强工作区间；若波峰数量不小于两个，则提取峰值波长所对应的光强数值，分析波峰形态，识别与各反射区域相关联的峰值波长；分析镜面反射区域所在高度的偏移量，对镜面反射区域的检测高度进行校正，以获得扫描线上任一位置的线光斑宽度范围内覆盖的各反射区域间的高度差；根据高度差，调整传感器相对于待测物表面的距离，使得扫描线上任一位置的光谱图中有且只有一个有效波峰。本发明能够准确计算出线光斑宽度范围覆盖的镜面反射区域和漫反射区域间的高度差，提高光谱图的信噪比，扩大应用场景。

今年以来埃科光电新获得专利授权36个，较去年同期增加了33.33%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了5512.24万元，同比增23.48%。

通过天眼查大数据分析，合肥埃科光电科技股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目25次；财产线索方面有商标信息53条，专利信息444条，著作权信息78条；此外企业还拥有行政许可19个。

数据来源：天眼查APP

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