四方光电获得实用新型专利授权：“一种气室加热结构及气体传感器”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示四方光电（688665）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种气室加热结构及气体传感器”，专利申请号为CN202521360270.3，授权日为2026年7月17日。

专利摘要：本实用新型涉及气体传感器技术领域，公开了一种气室加热结构及气体传感器；气体传感器包括气室、电路板和气室加热结构；气室加热结构包括：至少一加热器，用于与电路板电连接；以及，导热膜，其一侧面适配的贴覆于气室的外壁上，其另一侧面的至少部分与加热器连接或抵接或紧邻，以使得加热器可通过导热膜加热气室。本实用新型通过在气室外部设置导热膜，并基于导热膜和加热器之间的相对位置关系，使得加热器可对导热膜进行加热，由于导热膜的导热效果较好，加热器的能量能够较好地传递至整个导热膜，导热膜也能够将能量更均匀地传导至气室中，使气室能够有温升，以解决气室内冷凝/结霜的问题。

今年以来四方光电新获得专利授权5个，较去年同期减少了66.67%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了1.3亿元，同比增14.63%。

通过天眼查大数据分析，四方光电股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目66次；财产线索方面有商标信息45条，专利信息227条，著作权信息23条；此外企业还拥有行政许可37个。

数据来源：天眼查APP

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