晶合集成获得发明专利授权：“一种浸没式光刻图形水浸入型缺陷改善方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种浸没式光刻图形水浸入型缺陷改善方法”，专利申请号为CN202610274800.5，授权日为2026年7月21日。

专利摘要：本申请公开了一种浸没式光刻图形水浸入型缺陷改善方法，包括：在衬底上依次形成目标光阻层和牺牲光阻层；对所述目标光阻层和所述牺牲光阻层进行浸没式曝光处理；去除所述牺牲光阻层；对剩余的目标光阻层进行显影处理。本申请实施例提供的浸没式光刻图形水浸入型缺陷改善方法，在目标光阻层的表面形成牺牲光阻层，浸入型的缺陷形成于牺牲光阻层中，避免目标光阻层中形成浸入型缺陷，提升制程良率，同时，浸没水缺陷的降低有利于提高光刻、蚀刻线宽稳定性。

今年以来晶合集成新获得专利授权305个，较去年同期增加了36.16%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了14.53亿元，同比增13.2%。

通过天眼查大数据分析，合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了13家企业，参与招投标项目650次；财产线索方面有商标信息76条，专利信息1738条，著作权信息12条；此外企业还拥有行政许可29个。

数据来源：天眼查APP

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