中微公司获得发明专利授权：“气相沉积设备基片状态识别方法、系统及气相沉积设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“气相沉积设备基片状态识别方法、系统及气相沉积设备”，专利申请号为CN202311631975.X，授权日为2026年7月14日。

专利摘要：本发明提供一种气相沉积设备基片状态识别方法、系统及气相沉积设备，在反应腔处于初始温度以及各个节点温度时拍摄托盘的图像，将各个节点温度对应的图像与初始温度对应的图像进行对比，得到各个节点温度对应的噪声数据，在对基片进行处理的过程中，在反应腔升温过程中，获取升温至任一节点温度时基片和托盘的图像，结合该节点温度对应的噪声数据进行处理后，得到去噪后的图像，去噪后的图像相比于原始图像更为清晰，因此能够提高基片状态识别的准确性。

今年以来中微公司新获得专利授权87个，较去年同期增加了3.57%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了24.75亿元，同比增74.61%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了30家企业，参与招投标项目86次；财产线索方面有商标信息114条，专利信息1733条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可88个。

数据来源：天眼查APP

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