思特威获得发明专利授权：“相位对焦像素结构、图像传感器、电子设备及制备方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示思特威（688213）新获得一项发明专利授权，专利名为“相位对焦像素结构、图像传感器、电子设备及制备方法”，专利申请号为CN202110688805.X，授权日为2026年7月7日。

专利摘要：本发明提供一种相位对焦像素结构、图像传感器、电子设备及制备方法，像素结构包括：位于基底中的若干个像素区，位于基底中的第一隔离区和第二隔离区，二者将像素区划分为至少两个子像素区，以基于子像素区实现相位对焦，且第二隔离区包括离子掺杂隔离区。本发明通过在实现相位对焦的子像素区之间引入离子掺杂隔离区，有利于提高相位对焦速度及对焦效果；本发明还可以基于离子掺杂隔离区和背面深沟槽隔离区实现相位对焦像素的分离，通过对离子掺杂隔离区和背面深沟槽隔离区进行不同组合的设计，可以根据实际需要选择不同性能侧重点的设计，从而提升像素单元的整体性能。本发明的设计易于实现，与现有的半导体制作流程兼容，无需额外的工艺开发。

今年以来思特威新获得专利授权64个，较去年同期增加了14.29%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了6.18亿元，同比增38.16%。

通过天眼查大数据分析，思特威（上海）电子科技股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目8次；财产线索方面有商标信息283条，专利信息686条，著作权信息19条；此外企业还拥有行政许可29个。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，不构成投资建议。