华海清科获得发明专利授权：“一种化学机械抛光系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示华海清科（688120）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种化学机械抛光系统”，专利申请号为CN202310500740.0，授权日为2026年7月3日。

专利摘要：本发明提供了一种化学机械抛光系统，包括：前置单元，其内部储存有晶圆；设备主体，用于对晶圆进行抛光作业；机械手，在所述前置单元与所述设备主体之间进行交互以传递晶圆；前值量测单元，用于在晶圆传递过程中对抛光前的晶圆的厚度进行量测；后值量测单元，用于在晶圆传递过程中对抛光后的晶圆的厚度进行量测。本发明将晶圆厚度量测模块集成于化学机械抛光系统中，在晶圆传输过程中即可实现抛光前后晶圆表面的膜层厚度的实时量测，依据历史晶圆抛光前后表面沉积层厚度的变化关系以及下一片来料初始厚度对抛光工艺进行调整。

今年以来华海清科新获得专利授权49个，较去年同期增加了4.26%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了5.37亿元，同比增40.63%。

通过天眼查大数据分析，华海清科股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目290次；财产线索方面有商标信息93条，专利信息825条，著作权信息35条；此外企业还拥有行政许可36个。

数据来源：天眼查APP

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