胜科纳米获得发明专利授权：“一种TEM样品及其制备方法和应用”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示胜科纳米（688757）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种TEM样品及其制备方法和应用”，专利申请号为CN202510673237.4，授权日为2026年7月3日。

专利摘要：本发明提供一种TEM样品及其制备方法和应用，本发明提供的TEM样品的制备方法，在不影响半导体器件孔结构的前提下，先采用反应离子刻蚀去除半导体器件上堆积封堵孔口的部分残留聚合物，使孔口扩大不再封堵，有利于保护胶体进入孔结构进行填充以及原子层沉积的前驱体材料镀入，增强孔侧壁的清晰度，有效提升了TEM样品的质量和最终观测效果；并且本发明提供的TEM样品的制备方法所采用的设备和技术投资小，操作流程相对于Fab刻蚀工艺更加简单、快速；同时也可以实现批量化的实验室规模样品处理；另外，相比于湿化学腐蚀清洗技术去除残留聚合物，不会出现深孔结构底部化学试剂残留，化学反应物污染等问题。

今年以来胜科纳米新获得专利授权2个，较去年同期减少了33.33%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了5735.85万元，同比增25.23%。

通过天眼查大数据分析，胜科纳米（苏州）股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目46次；财产线索方面有商标信息70条，专利信息110条，著作权信息21条；此外企业还拥有行政许可25个。

数据来源：天眼查APP

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