拓荆科技获得发明专利授权：“一种半导体装置及半导体加工工艺方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拓荆科技（688072）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种半导体装置及半导体加工工艺方法”，专利申请号为CN202211420787.8，授权日为2026年6月26日。

专利摘要：本发明提供了一种半导体装置及半导体加工工艺方法，涉及半导体加工技术领域，所述半导体装置包括：反应腔室；加热盘，设于所述反应腔室内；所述加热盘上开设有吸附孔；前级管道，顶端与所述反应腔室连通，底端与真空泵连接；真空吸附管路，包括第一至第三连接管路；所述第一至第三连接管路分别连通所述加热盘、所述前级管道的顶端和底端。这样，通过对所述第一至第三阀门的逻辑控制，使所述第一至第三阀门在时序控制下转动，以切换所述第一至第三连接管路导通或阻断状态，从而将真空吸附管路中的残留气体完全排空，提升真空吸附效果、降低晶圆吸附不牢靠而掉落的现象、减少产品错误率和能源浪费。

今年以来拓荆科技新获得专利授权14个，较去年同期减少了44%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了7.7亿元，同比增1.8%。

通过天眼查大数据分析，拓荆科技股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目106次；财产线索方面有商标信息110条，专利信息731条，著作权信息32条；此外企业还拥有行政许可39个。

数据来源：天眼查APP

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