芯源微获得发明专利授权：“一种改善均匀性的光刻胶涂胶方法”_股票频道

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示芯源微（688037）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种改善均匀性的光刻胶涂胶方法”，专利申请号为CN202210857477.6，授权日为2026年6月19日。

专利摘要：本发明提出了一种改善晶圆上光阻涂布均匀性的方法，在光刻胶涂胶时，涂胶步骤中，1500?3500rpm/min时的打胶时间设置要小于胶泵总打胶时间(根据粘度不同，通过实验调整时间配比，占打胶时间百分之85％?95％，随光刻胶粘度增加适当降低打胶时间)，进而留下一部分打胶时间在其下一步骤打出光刻胶，然后再以1000?3500rpm/min的转速旋转一定时间成膜。提高光刻胶膜厚的均匀性。

今年以来芯源微新获得专利授权18个，较去年同期减少了25%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了2.55亿元，同比减14.21%。

通过天眼查大数据分析，沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目337次；财产线索方面有商标信息49条，专利信息696条，著作权信息109条；此外企业还拥有行政许可71个。

数据来源：天眼查APP

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