中微公司获得实用新型专利授权：“一种气相沉积装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种气相沉积装置”，专利申请号为CN202521091304.3，授权日为2026年6月9日。

专利摘要：本实用新型公开了一种气相沉积装置，其包括：处理腔，其内设有可升降的基座，所述基座用于承载基片；靶材，其设置在所述处理腔内的顶部；磁控组件，其设置在所述处理腔外的顶部，用于激发所述靶材；准直器，其设置在所述基座与所述靶材之间；所述靶材的底部到所述基座的顶部之间的距离为200～550mm。本实用新型提供的气相沉积装置不仅增强了对深孔侧壁和底部的填孔能力，还在提升薄膜沉积均匀性的同时，提高了靶材利用率。

今年以来中微公司新获得专利授权74个，较去年同期增加了7.25%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了24.75亿元，同比增74.61%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了30家企业，参与招投标项目84次；财产线索方面有商标信息112条，专利信息1685条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可88个。

数据来源：天眼查APP

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