兴福电子获得发明专利授权：“一种高蚀刻速率和高平整度的硅晶圆化学抛光液及应用”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示兴福电子（688545）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种高蚀刻速率和高平整度的硅晶圆化学抛光液及应用”，专利申请号为CN202411831559.9，授权日为2026年6月5日。

专利摘要：本发明公开了一种高蚀刻速率和高平整度的硅晶圆化学抛光液及应用，所述硅晶圆化学抛光液由以下质量百分数原料组成：20?60%硝酸、3?15%氢氟酸、1?20%硫酸、5?30%磷酸、0.01?5%添加剂，余量为水；其中添加剂由速率稳定剂和流动调节剂组成。本发明制备得到的硅晶圆化学抛光液可以在35℃以下对硅晶圆进行化学抛光，消除研磨过后产生的残余应力以及损伤层，减少破片的风险，且经过化学抛光处理后的硅晶圆，表面呈镜面，粗糙度(Ra)小于1nm，TTV小于0.2μm。

今年以来兴福电子新获得专利授权20个，较去年同期增加了11.11%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了9291.33万元，同比增20.79%。

通过天眼查大数据分析，湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目235次；财产线索方面有商标信息7条，专利信息540条，著作权信息6条；此外企业还拥有行政许可287个。

数据来源：天眼查APP

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