拓荆科技获得发明专利授权：“屏蔽隔离结构、等离子体反应器、半导体加工装置及方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拓荆科技（688072）新获得一项发明专利授权，专利名为“屏蔽隔离结构、等离子体反应器、半导体加工装置及方法”，专利申请号为CN202211310433.8，授权日为2026年5月29日。

专利摘要：本发明提供了屏蔽隔离结构、多腔等离子体反应器、半导体加工装置以及半导体加工方法。该屏蔽隔离结构被设置于多腔等离子体反应器的抽气通道中，并包括：屏蔽竖板，由金属材料制成，并沿所述抽气通道的延伸方向设置，以将所述抽气通道分隔成多个抽气单元，其中，所述抽气通道在各所述抽气单元的侧壁上分别包括至少一个抽气孔，所述抽气单元经由所述至少一个抽气孔连接一个对应的等离子体反应腔，以对所述等离子体反应腔进行抽气；以及安装底座，由金属材料制成，固定连接所述抽气通道的内壁，并被设置于所述屏蔽竖板的底部，以支撑所述屏蔽竖板，其中，所述安装底座上设有多个过气孔，以供各所述抽气单元经由所述多个过气孔进行排气。

今年以来拓荆科技新获得专利授权11个，较去年同期减少了35.29%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了7.7亿元，同比增1.8%。

通过天眼查大数据分析，拓荆科技股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目106次；财产线索方面有商标信息110条，专利信息731条，著作权信息32条；此外企业还拥有行政许可39个。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，不构成投资建议。

相关 ETF