证券之星消息,根据天眼查APP数据显示盛美上海(688082)新获得一项发明专利授权,专利名为“基板清洗设备及其翻转装置”,专利申请号为CN202210138646.0,授权日为2026年5月22日。
专利摘要:本发明提出的基板清洗设备及其翻转装置中,基板翻转装置包括槽、提升机构和翻转机构,提升机构设置在槽一侧,配置为接收基板并带动基板升降;翻转机构设置在槽上,用于翻转基板,配置为相对提升机构在接片位置和取片位置之间移动,接片位置为翻转机构从提升机构中接收基板的位置,取片位置为从翻转机构取出基板的位置。在本发明中,完成槽式清洗的多片基板能够一次性转移到提升机构中,并由翻转机构分多次快速转移到工艺机械手,这不仅使得完成槽式清洗的基板在基板清洗槽内的停留时间减少,提高基板清洗设备的效能,还有利于提高基板翻转装置的传输速度。
今年以来盛美上海新获得专利授权15个,较去年同期增加了200%。结合公司2025年年报财务数据,2025年公司在研发方面投入了10.03亿元,同比增37.64%。
通过天眼查大数据分析,盛美半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了16家企业,参与招投标项目178次;财产线索方面有商标信息39条,专利信息707条,著作权信息1条;此外企业还拥有行政许可32个。
数据来源:天眼查APP
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