中微公司获得发明专利授权：“一种刻蚀设备及其衬底处理系统和器件制备方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种刻蚀设备及其衬底处理系统和器件制备方法”，专利申请号为CN202311057336.7，授权日为2026年5月12日。

专利摘要：本发明公开了一种刻蚀设备及其衬底处理系统和器件制备方法，该刻蚀设备用于在衬底表面形成隔离槽，其包含：刻蚀腔，其腔体上开设有用于输送刻蚀气体的输气口；位于刻蚀腔内部用于承载衬底的基座；掩膜板，其位于输气口与基座之间，掩膜板与基座之间的距离可调；其中，掩膜板包含：支撑板，其开设有多个第一气体通道；弹性介质层，其位于支撑板底部，支撑板底部设置有多个弹性介质层覆盖区以及位于不同弹性介质层覆盖区之间的多条第二气体通道，多个第一气体通道与第二气体通道连通并共同组成刻蚀气体扩散通道。其优点是：该刻蚀设备将可相对移动的掩膜板和基座相结合，简化了衬底处理的步骤，无需额外增加掩膜和设备，减少了生产投入成本。

今年以来中微公司新获得专利授权61个，较去年同期减少了8.96%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了24.75亿元，同比增74.61%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目80次；财产线索方面有商标信息111条，专利信息1672条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可88个。

数据来源：天眼查APP

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