中微公司获得发明专利授权：“一种反应腔清洁方法及等离子体刻蚀设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种反应腔清洁方法及等离子体刻蚀设备”，专利申请号为CN202311109950.3，授权日为2026年5月12日。

专利摘要：本发明公开了一种反应腔清洁方法及等离子体刻蚀设备，在所述反应腔内处理基片后，清洁所述反应腔内的残留物，包括：向所述反应腔内通入第一混合气体，将所述第一混合气体解离为等离子体，所述第一混合气体包括Cl2和O2，Cl2和O2的体积比大于1；向所述反应腔内通入第二混合气体，将所述第二混合气体解离为等离子体，所述第二混合气体包括Cl2和O2，Cl2和O2的体积比小于1。与仅通入单一气体相比，本发明提供的混合气体对残留物的清除效率高，能够保证反应腔环境的稳定性。

今年以来中微公司新获得专利授权61个，较去年同期减少了8.96%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了24.75亿元，同比增74.61%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目80次；财产线索方面有商标信息111条，专利信息1672条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可88个。

数据来源：天眼查APP

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