中微公司获得发明专利授权：“半导体处理腔、半导体处理设备及气相外延设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“半导体处理腔、半导体处理设备及气相外延设备”，专利申请号为CN202210410373.0，授权日为2026年5月12日。

专利摘要：本发明公开了一种半导体处理腔、半导体处理设备及气相外延设备，解决了半导体处理领域工艺气体均匀性、红外辐射透过率和承压能力的技术问题，主要通过一承压壳体覆盖处理腔的上盖，并形成一密闭空间，使用一调压装置对密闭空间的气压进行调节，进而调整半导体处理腔的上盖上下表面承受的气压，来优化上盖的结构设计，以达到在半导体工艺过程中，为了实现对基片表面更高均匀性、更高质量的处理，可以对上盖进行更大范围的改进，来获得更优化的处理空间。

今年以来中微公司新获得专利授权61个，较去年同期减少了8.96%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了24.75亿元，同比增74.61%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目80次；财产线索方面有商标信息111条，专利信息1672条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可88个。

数据来源：天眼查APP

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