中微公司获得发明专利授权：“一种边缘刻蚀设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种边缘刻蚀设备”，专利申请号为CN202311239985.9，授权日为2026年5月12日。

专利摘要：本发明公开一种边缘刻蚀设备，包括：反应腔；基座，设置于所述反应腔的内部底部，用于承载晶圆；上遮挡部，设置于所述反应腔的内部顶部；下限制环，围绕所述基座设置；以及上限制环，围绕所述上遮挡部设置；所述上限制环和所述下限制环配合以在所述晶圆的边缘区域形成等离子体反应空间；且所述上限制环上设有朝向所述等离子体反应空间的第一缺口。本发明中第一缺口的设置可以有效增加等离子体反应空间的容积，从而使得等离子体反应空间内可以容纳更多的工艺气体，进而在对工艺气体电离后产生更多的等离子体，以大幅度地提高晶圆边缘区域的刻蚀速率。

今年以来中微公司新获得专利授权61个，较去年同期减少了8.96%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了24.75亿元，同比增74.61%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目80次；财产线索方面有商标信息111条，专利信息1672条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可88个。

数据来源：天眼查APP

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