拉普拉斯获得实用新型专利授权：“尾端盖及原子层沉积设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拉普拉斯（688726）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“尾端盖及原子层沉积设备”，专利申请号为CN202520849555.7，授权日为2026年5月5日。

专利摘要：本申请涉及光伏和半导体技术领域，尤其涉及一种尾端盖和原子层沉积设备，尾端盖包括：基板，开设有热场安装孔，热场安装孔被构造成插入或抽出热场；加强结构组件，包括：强度件，沿热场安装孔的边缘垂直向远离基板的方向延伸；翼缘板，从强度件远离基板的一端的侧面向外延伸；密封板，密封地安装在翼缘板上，密封板上开设有热场出线孔；出线密封柱，密封的安装在热场出线孔，出线密封柱被构造成与热场电连接。通过调整热场与ALD设备尾端盖的连接方式，利用加强结构组件和密封板对热场进行独立地密封和固定，简化热场的拆装工艺，降低了维护难度并排除了安全风险。

今年以来拉普拉斯新获得专利授权39个，较去年同期减少了30.36%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了3.85亿元，同比增30.33%。

通过天眼查大数据分析，拉普拉斯新能源科技股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目66次；财产线索方面有商标信息144条，专利信息800条，著作权信息11条；此外企业还拥有行政许可61个。

数据来源：天眼查APP

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