天合光能获得实用新型专利授权：“半导体颗粒的清洁装置与半导体设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示天合光能（688599）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“半导体颗粒的清洁装置与半导体设备”，专利申请号为CN202520336823.5，授权日为2026年4月10日。

专利摘要：本申请涉及一种半导体颗粒的清洁装置与半导体设备，一种半导体颗粒的清洁装置包括：静电吸附组件，包括互相电连接的静电发生器与静电吸附板，驱动机构，与静电吸附板连接，驱动机构被配置为驱动静电吸附板运动，综上所述，本实施例中的半导体颗粒的清洁装置，通过静电发生器与静电吸附板电连接，驱动机构驱动静电吸附板运动，可以高效高质地对杂质进行清理，防止对工作人员的身体造成伤害，降低清理成本，避免损伤待清洁设备。

今年以来天合光能新获得专利授权163个，较去年同期减少了18.09%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了9亿元，同比增6.6%。

通过天眼查大数据分析，天合光能股份有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目7236次；财产线索方面有商标信息1071条，专利信息4735条，著作权信息128条；此外企业还拥有行政许可42个。

数据来源：天眼查APP

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