盛美上海获得发明专利授权：“基板处理装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示盛美上海（688082）新获得一项发明专利授权，专利名为“基板处理装置”，专利申请号为CN202511376375.2，授权日为2026年4月17日。

专利摘要：本申请提出了一种基板处理装置，包括基板载台、驱动装置、背喷组件、中间通道和密封装置。基板载台，用于承载基板；驱动装置包括旋转轴，旋转轴与基板载台同轴固定连接，并位于基板载台下方；中间通道，为沿旋转轴的轴线贯穿基板载台和旋转轴的中空孔道；背喷组件，穿设于中间通道，并与中间通道的内壁之间形成环隙；密封装置，与驱动装置的底部和背喷组件密封连接，密封装置包括排液部和收集空间，收集空间与环隙连通。本申请通过设置与驱动装置的底部和背喷组件密封连接的密封装置，并利用排液部及时排出流入收集空间的处理液，有效地防止了处理液腐蚀其他器件，也防止了外界气体中的颗粒物通过环隙污染基板。

今年以来盛美上海新获得专利授权11个，较去年同期增加了266.67%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了10.03亿元，同比增37.64%。

通过天眼查大数据分析，盛美半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目173次；财产线索方面有商标信息39条，专利信息695条，著作权信息1条；此外企业还拥有行政许可32个。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。