中微公司获得实用新型专利授权：“一种基座及化学气相沉积设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种基座及化学气相沉积设备”，专利申请号为CN202520166280.7，授权日为2026年3月17日。

专利摘要：本实用新型公开了一种基座及化学气相沉积设备，所述基座包括：基座主体，基座主体用于承载和加热衬底，基座主体上设置有通孔；贯穿通孔的顶针，顶针相对基座主体上下运动，以使衬底被顶针顶起或落于基座主体上；底部吹扫机构，底部吹扫机构设置于基座主体的下方，用于向基座主体的背面通入吹扫气体；底部吹扫机构包括导气管，导气管的出气口靠近通孔所在的区域设置，用于向通孔所在的区域通入吹扫气体。本实用新型提供的基座能够减少甚至是避免工艺气体在基座的底部甚至通孔的内壁上产生薄膜沉积，进而减少顶针被卡住的情况发生。

今年以来中微公司新获得专利授权37个，较去年同期减少了2.63%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了24.75亿元，同比增74.61%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目76次；财产线索方面有商标信息109条，专利信息1623条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可77个。

数据来源：天眼查APP

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