捷佳伟创获得实用新型专利授权：“靶材输送装置及RPD真空镀膜设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示捷佳伟创（300724）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“靶材输送装置及RPD真空镀膜设备”，专利申请号为CN202520522492.4，授权日为2026年3月24日。

专利摘要：本实用新型公开了一种靶材输送装置及RPD真空镀膜设备，包括：供靶机构，其内设有密闭腔室及位于密闭腔室下方并与其相通的第一进靶通道，第一进靶通道的进出口均呈倒角结构；供靶机构用于将靶材送入RPD真空镀膜设备的炉膛；第一顶靶机构，其用于将进料口的靶材沿第一进靶通道匹配推送至供靶机构；密闭腔室的底部对应第一进靶通道匹配设有支撑块，且支撑块位于第一进靶通道朝向靶材的相反旋转方向的一侧；支撑块用于将靶材抬升至预定高度。本实用新型能通过支撑块来保证待下料的靶材底面高于第一顶靶机构的顶升端，避免靶材在下料时发生卡住的情况，从而保证整机的镀膜效率和镀膜效果，降低时间和人工成本。

今年以来捷佳伟创新获得专利授权35个，较去年同期增加了59.09%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了2.78亿元，同比减4.47%。

通过天眼查大数据分析，深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目98次；财产线索方面有商标信息16条，专利信息563条，著作权信息79条；此外企业还拥有行政许可72个。

数据来源：天眼查APP

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