莱伯泰科获得发明专利授权：“用于半导体痕量元素开关盖进样分析的复合垂向臂结构”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示莱伯泰科（688056）新获得一项发明专利授权，专利名为“用于半导体痕量元素开关盖进样分析的复合垂向臂结构”，专利申请号为CN202310807825.3，授权日为2026年3月20日。

专利摘要：本发明提供一种用于半导体痕量元素开关盖进样分析的复合垂向臂结构，具有电动升降组件、电动转动组件、开关盖组件以及取样组件，所述电动升降组件能够驱动所述电动转动组件进行升降动作，所述开关盖组件以及取样组件安装在所述电动转动组件上，并能够被所述电动转动组件驱动同步旋转。本发明通过将开关盖组件与取样组件整合到同一个复合垂向臂结构上，具有简单、高效、速度快的优点。

今年以来莱伯泰科新获得专利授权3个，较去年同期减少了57.14%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了2361.66万元，同比减5.38%。

通过天眼查大数据分析，北京莱伯泰科仪器股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目857次；财产线索方面有商标信息115条，专利信息207条，著作权信息43条；此外企业还拥有行政许可17个。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。