广合科技获得实用新型专利授权：“一种铜离子浓度监测装置及VCP电镀线”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示广合科技（001389）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种铜离子浓度监测装置及VCP电镀线”，专利申请号为CN202520242810.1，授权日为2026年2月27日。

专利摘要：本实用新型提供了一种铜离子浓度监测装置及VCP电镀线，属于PCB生产技术领域。该一种铜离子浓度监测装置包括监测探头以及监测主体，所述监测探头与所述监测主体电连接。所述监测主体中设置有显示屏、报警器以及控制器，所述控制器与所述监测探头、所述显示屏以及所述报警器电连接。该铜离子浓度监测装置能够对溶液的铜离子浓度进行监测，并在溶液的铜离子浓度超过设定值时报警，应用在VCP电镀线中，有助于保证电路板的生产质量。

今年以来广合科技新获得专利授权5个，较去年同期增加了150%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了1.17亿元，同比增46.1%。

通过天眼查大数据分析，广州广合科技股份有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目108次；财产线索方面有商标信息60条，专利信息448条，著作权信息39条；此外企业还拥有行政许可148个。

数据来源：天眼查APP

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