上海新阳获得发明专利授权：“一种厚膜光刻胶用氨污染抑制添加剂及其制备方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示上海新阳（300236）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种厚膜光刻胶用氨污染抑制添加剂及其制备方法”，专利申请号为CN202111395643.7，授权日为2026年2月17日。

专利摘要：本发明公开了一种厚膜光刻胶用氨污染抑制添加剂及其制备方法，还提供了一种光刻胶组合物、其制备方法及其应用。该光刻胶组合物的原料包括：无规共聚物、光致生酸剂、光敏聚合物和有机溶剂。所述无规共聚物为由下述通式Ia、Ib和Ic表示的结构单元组成的重均分子量为1000?50000的无规共聚物，其中结构单元Ia、Ib和Ic的摩尔百分比为：0≤Ia<90％，0≤Ib<90％，0

今年以来上海新阳新获得专利授权1个，较去年同期减少了75%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了1.22亿元，同比增25.4%。

通过天眼查大数据分析，上海新阳半导体材料股份有限公司共对外投资了26家企业，参与招投标项目74次；财产线索方面有商标信息10条，专利信息435条，著作权信息2条；此外企业还拥有行政许可105个。

数据来源：天眼查APP

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