拓荆科技获得发明专利授权：“半导体设备进料块结构及进气装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拓荆科技（688072）新获得一项发明专利授权，专利名为“半导体设备进料块结构及进气装置”，专利申请号为CN202211384911.X，授权日为2026年2月10日。

专利摘要：本发明提供了一种半导体设备进料块结构及进气装置，涉及半导体设备的技术领域，包括进料块主体和调温机构；进料块主体贯穿开设有多条输气通道，每条输气通道呈单独贯通，通过利用每个单独的输气通道分别单独输送每种气体，可以保证在进入反应腔内的气体单独进气；调温机构能够调节进料块主体的整体温度，以调节经输气通道输送的气体温度，即利用调温机构即能够对输气通道内的气体进行升温，也可以进行冷却；实现了对不同气体的更广范围的温度控制，缓解了现有技术中存在的两种及以上的气体共用一个气道输送时，会增加反应腔内部的颗粒污染，以及无法满足升温调节气体温度的技术问题。

今年以来拓荆科技新获得专利授权3个，与去年同期持平。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了3.01亿元，同比减4.33%。

通过天眼查大数据分析，拓荆科技股份有限公司共对外投资了9家企业，参与招投标项目104次；财产线索方面有商标信息110条，专利信息741条，著作权信息32条；此外企业还拥有行政许可38个。

数据来源：天眼查APP

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