万华化学获得发明专利授权：“一种宽去除速率选择比的抛光组合物及其应用”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示万华化学（600309）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种宽去除速率选择比的抛光组合物及其应用”，专利申请号为CN202310409168.7，授权日为2026年2月10日。

专利摘要：本发明公开了一种宽去除速率选择比的抛光组合物及其应用，所述抛光组合物以表面固定有有机酸的纳米二氧化硅胶体为主要抛光组分，并添加含有椰油基的疏水性表面活性剂和聚氧乙烯?聚氧丙烯亲水性共聚物作为选择比调节剂，还添加有由丙烯酸单体聚合形成的重均分子量约1000～200000的丙烯酸均聚物及其盐以及丙烯酸共聚物。本发明的抛光组合物包括由两种表面活性剂组成的选择比抑制剂和水溶性聚合物，绿色低毒，能够实现更宽的氮化硅、氧化硅对多晶硅材料的抛光选择性，同时也能有效地抑制抛光缺陷的产生。

今年以来万华化学新获得专利授权53个，较去年同期增加了39.47%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了22.91亿元，同比增10.1%。

通过天眼查大数据分析，万华化学集团股份有限公司共对外投资了80家企业，参与招投标项目5296次；财产线索方面有商标信息288条，专利信息6583条，著作权信息72条；此外企业还拥有行政许可1001个。

数据来源：天眼查APP

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