盛美上海获得发明专利授权：“基板清洗装置、清洗方法及涂胶显影设备”_股票频道

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示盛美上海（688082）新获得一项发明专利授权，专利名为“基板清洗装置、清洗方法及涂胶显影设备”，专利申请号为CN202410502412.9，授权日为2026年1月23日。

专利摘要：本申请公开了一种基板清洗装置、清洗方法及涂胶显影设备，该基板清洗装置包括卡盘主体；若干夹持件，呈圆形排布于卡盘主体表面，用于夹持基板，并带动基板自转；背面清洗机构，用于在基板自转期间，对基板靠近卡盘主体的一面进行清洗；卡盘驱动机构，与卡盘主体连接，用于驱动卡盘主体旋转以甩干完成清洗的基板。实现了提升基板背面清洗效果的技术效果及清洗效率。

今年以来盛美上海新获得专利授权2个。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了4.16亿元，同比增20.17%。

通过天眼查大数据分析，盛美半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目172次；财产线索方面有商标信息39条，专利信息669条；此外企业还拥有行政许可31个。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。