芯碁微装获得实用新型专利授权：“一种曝光面剂量修正系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示芯碁微装（688630）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种曝光面剂量修正系统”，专利申请号为CN202520171669.0，授权日为2026年1月13日。

专利摘要：本实用新型公开了一种曝光面剂量修正系统，涉及光刻设备技术领域。具体包括探测装置、第一探测器以及第二探测器，探测装置用于接收和调整光源设备发射的激光；第一探测器安装于探测装置的一侧，其接收探测装置射出的激光，并经光电转化为传输至控制器的电信号；第二探测器设在曝光面的周边，其检测光源设备发射并经过镜片照射到曝光面的激光，并光电转化为传输至控制器的电信号。第一探测器测量光源设备的能量，而第二探测器获取曝光面的能量，并通过控制器将第一探测器的能量和第二探测器的能量做一闭环，可校正后的光路中第二探测器可以直接表征曝光面能量，提高曝光面剂量的测量精度，也无需采用深入探测器的方式。

今年以来芯碁微装新获得专利授权5个，较去年同期增加了150%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了6095.32万元，同比增24.56%。

通过天眼查大数据分析，合肥芯碁微电子装备股份有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目160次；财产线索方面有商标信息35条，专利信息387条，著作权信息54条；此外企业还拥有行政许可26个。

数据来源：天眼查APP

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