中微公司获得实用新型专利授权：“一种化学气相沉积装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种化学气相沉积装置”，专利申请号为CN202520172387.2，授权日为2026年1月9日。

专利摘要：一种化学气相沉积装置，包括：反应腔，反应腔包括反应腔侧壁和反应腔底壁；基座，位于反应腔内，基座包括基座侧壁，基座侧壁和反应腔侧壁之间包括一容纳区域；其特征在于，装置还包括：隔离板，位于容纳区域内并将容纳区域划分为一环形的排气腔和一环形的存储空间，排气腔位于隔离板和基座侧壁或反应腔侧壁之间，存储空间位于隔离板和反应腔侧壁或基座侧壁之间；隔离板的上边缘和基座侧壁/反应腔侧壁之间具有一环形的第一开口，气流经过第一开口进入排气腔内，并且第一开口的朝向与基座侧壁/反应腔侧壁平行。本实用新型提供的化学气相沉积装置能够防止沉积物堵塞排气口，改善反应腔内气流的均匀性，同时加工过程简单。

今年以来中微公司新获得专利授权15个，较去年同期增加了50%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了11.16亿元，同比增96.65%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了30家企业，参与招投标项目75次；财产线索方面有商标信息108条，专利信息1644条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可77个。

数据来源：天眼查APP

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