中微公司获得实用新型专利授权：“一种化学气相沉积装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种化学气相沉积装置”，专利申请号为CN202520086318.X，授权日为2026年1月9日。

专利摘要：本实用新型提供一种化学气相沉积装置，其反应腔内设有基座和排气环，排气环位于基座下方，排气环包括顶盖、排气通道、排气腔和抽气口，顶盖位于排气通道的上方，排气通道的外侧壁上设有开口朝向为非竖直方向的排气口，排气口为连续的环形开口，工艺过程中产生的废气依次经排气口、排气通道、排气腔和抽气口离开反应腔；排气环还包括设置于排气通道或排气腔中的限流环，限流环上开设有废气通道；排气通道的外侧壁与腔室壁之间形成用于存储工艺过程中产生的沉积物的存储区。环形开口的排气口能够降低在存储区形成将存储区中的沉积物反卷到晶圆表面的涡流的概率。限流环有利于在反应腔内形成更加均匀的流场。

今年以来中微公司新获得专利授权15个，较去年同期增加了50%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了11.16亿元，同比增96.65%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了30家企业，参与招投标项目75次；财产线索方面有商标信息108条，专利信息1644条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可77个。

数据来源：天眼查APP

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