中微公司获得实用新型专利授权：“化学气相沉积设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“化学气相沉积设备”，专利申请号为CN202423319091.3，授权日为2026年1月9日。

专利摘要：本实用新型提供一种化学气相沉积设备，具有热退火功能，化学气相沉积设备包括：反应腔；底座，位于所述反应腔内部，所述底座内设置加热模块，用于将所述底座上承载的衬底加热至第一温度；工艺气体供应装置，位于所述反应腔外部，用于提供工艺气体；进气装置，与所述工艺气体供应装置连接，用于向所述反应腔通入气体；真空抽气口，设置在所述反应腔的底部，用于抽出所述反应腔内的气体；退火加热模块，位于所述反应腔的顶壁的外部，用于将所述衬底辐射加热至大于所述第一温度的第二温度。本实用新型可以实现在一台设备中对衬底进行薄膜沉积以及热退火，提高薄膜质量和生产效率。

今年以来中微公司新获得专利授权15个，较去年同期增加了50%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了11.16亿元，同比增96.65%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了30家企业，参与招投标项目75次；财产线索方面有商标信息108条，专利信息1644条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可77个。

数据来源：天眼查APP

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