中自科技获得发明专利授权：“一种低空速SCR催化剂及其制备方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中自科技（688737）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种低空速SCR催化剂及其制备方法”，专利申请号为CN202510342818.X，授权日为2025年11月11日。

专利摘要：本发明公开了一种低空速SCR催化剂及其制备方法，催化剂包括涂层和支撑层，其中，所述涂层包括：涂层材料，掺钨(5％)锐钛型纳米二氧化钛、二氧化钛和SSZ?13分子筛混合物，含量为总负载量的56.1wt％～75.6wt％；方法包括以下步骤：制备支撑层溶液和涂层材料；制成催化剂浆料；对带支撑层溶液的催化剂载体进行烘干；向催化剂载体涂覆催化剂浆料；焙烧烘干后得到催化剂。本发明通过对支撑层溶液和催化剂浆料进行涂覆的方式提升涂覆均匀性和效率，从而提高催化剂低空速状态下NOx转化效率。

今年以来中自科技新获得专利授权27个，较去年同期增加了58.82%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了5997.65万元，同比增30.46%。

通过天眼查大数据分析，中自科技股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目57次；财产线索方面有商标信息117条，专利信息330条；此外企业还拥有行政许可104个。

数据来源：天眼查APP

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