证券之星消息,根据天眼查APP数据显示万华化学(600309)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种低锆含量的钨化学机械抛光液、制备方法及其应用”,专利申请号为CN202310903964.6,授权日为2025年11月4日。
专利摘要:本发明公开了一种低锆含量的钨化学机械抛光液、制备方法及其应用,所述抛光液以商用电子级气相二氧化硅经研磨、除杂得到的纳米级气相二氧化硅为磨料,其中,所述钨化学机械抛光液中Zr含量为8ppb?8ppm。本发明的纳米级气相二氧化硅通过球磨机研磨获得纳米级气相二氧化硅分散液,再利用溶剂萃取法去除分散液中的Zr杂质。利用本发明所得低Zr含量的纳米级气相二氧化硅分散液配制的钨化学机械抛光液具有抛光表面质量高、杂质残留量低等特点。
今年以来万华化学新获得专利授权468个,较去年同期减少了4.49%。结合公司2025年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了22.91亿元,同比增10.1%。
通过天眼查大数据分析,万华化学集团股份有限公司共对外投资了77家企业,参与招投标项目5043次;财产线索方面有商标信息283条,专利信息6285条,著作权信息72条;此外企业还拥有行政许可973个。
数据来源:天眼查APP
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