C奕材获得发明专利授权：“硅片边缘刻蚀设备和硅片边缘刻蚀方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示C奕材（688783）新获得一项发明专利授权，专利名为“硅片边缘刻蚀设备和硅片边缘刻蚀方法”，专利申请号为CN202411771062.2，授权日为2025年10月31日。

专利摘要：本发明提供了一种硅片边缘刻蚀设备和硅片边缘刻蚀方法，涉及半导体技术领域，所述硅片边缘刻蚀设备，包括：在竖直方向上相对设置的上承载台和下承载台，硅片位于下承载台朝向上承载台的一侧；控制器，与上承载台连接和/或与下承载台连接，控制器用于获取硅片的厚度，并根据厚度控制上承载台在竖直方向上移动和/或控制下承载台在竖直方向上移动，以使上承载台与下承载台之间的距离等于所述硅片的厚度。本发明能够避免上承载台、下承载台与硅片之间的过大压力发生碎片，也能够通过上承载台和下承载台固定住硅片，防止硅片在后续加工过程中发生偏移，还能够通过上承载台覆盖住硅片上表面不需被刻蚀的区域，避免这些不需被刻蚀的区域产生刻蚀。

今年以来C奕材新获得专利授权38个。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了1.28亿元，同比减nan%。

通过天眼查大数据分析，西安奕斯伟材料科技股份有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目3次；财产线索方面有商标信息5条，专利信息1448条；此外企业还拥有行政许可24个。

数据来源：天眼查APP

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