中微公司获得实用新型专利授权：“一种工艺顶盖及气相沉积设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种工艺顶盖及气相沉积设备”，专利申请号为CN202521979639.9，授权日为2025年10月21日。

专利摘要：本实用新型公开了一种工艺顶盖及气相沉积设备，属于半导体设备领域，所述工艺顶盖用于气相沉积设备，所述工艺顶盖包括：基材，其具有环状结构；耐腐蚀涂层，其覆盖所述基材的上表面；所述工艺顶盖的至少部分下表面的表面粗糙度为3μm~15μm。本实用新型通过增加工艺顶盖下表面的粗糙度，增加了工艺顶盖的下表面与附着物的结合力，进而抑制了附着物在晶圆生长过程中掉落，提高了晶圆薄膜生长的质量。

今年以来中微公司新获得专利授权131个，较去年同期增加了42.39%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了11.16亿元，同比增96.65%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目67次；财产线索方面有商标信息98条，专利信息1538条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可76个。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。