晶合集成获得发明专利授权：“一种金属插塞及其形成方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种金属插塞及其形成方法”，专利申请号为CN202510972429.5，授权日为2025年10月10日。

专利摘要：本发明提供一种金属插塞及其形成方法，形成方法包括：在衬底上形成绝缘介质层，绝缘介质层由下至上依次包括第一层间介质层、停止层和第二层间介质层，绝缘介质层中设置有填充层，填充层贯通绝缘介质层并与衬底接触，还覆盖绝缘介质层的表面；对填充层进行第一次研磨，并研磨停止在第二层间介质层上；对填充层进行第二次研磨，使得填充层的表面位于第二层间介质层的上表面和停止层的上表面之间；对第二层间介质层进行研磨，并研磨停止在停止层上；对填充层进行第三次研磨并形成金属接触，使得金属接触的表面位于所述停止层的下表面下方，以调整抛光顺序并将一次过抛光拆分成两次，降低单次研磨应力，消除了金属接触中心剥离风险，降低了良率损失。

今年以来晶合集成新获得专利授权290个，较去年同期增加了30.63%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了6.95亿元，同比增13.13%。

通过天眼查大数据分析，合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了9家企业，参与招投标项目630次；财产线索方面有商标信息52条，专利信息1231条，著作权信息7条；此外企业还拥有行政许可21个。

数据来源：天眼查APP

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