拓荆科技获得实用新型专利授权：“穿腔气路结构及薄膜沉积设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拓荆科技（688072）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“穿腔气路结构及薄膜沉积设备”，专利申请号为CN202422484816.8，授权日为2025年9月19日。

专利摘要：本实用新型公开了一种穿腔气路结构及薄膜沉积设备，该穿腔气路结构包括：第一腔体、第二腔体、第一混气块、第二混气块和进气管路，所述第一腔体与所述第二腔体相邻设置，所述第一混气块设于所述第一腔体的顶部，所述第二混气块设于所述第二腔体的顶部；其中，所述进气管路配置为由所述第一腔体和所述第二腔体的下方分气后分别上穿所述第一腔体和所述第二腔体，并分别与所述第一混气块和所述第二混气块连接。通过采用下分气的方式，增大了一分二段管路的流阻，可以有效抑制难加工的大流阻件如混气块、大挡板、喷淋板等对分气的影响，从而显著提高了分气均匀性，提高薄膜的沉积的质量。

今年以来拓荆科技新获得专利授权46个，较去年同期增加了84%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了3.01亿元，同比减4.33%。

通过天眼查大数据分析，拓荆科技股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目98次；财产线索方面有商标信息110条，专利信息713条，著作权信息32条；此外企业还拥有行政许可32个。

数据来源：天眼查APP

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