天合光能获得发明专利授权：“硅片除杂方法、硅片及其制备方法和应用”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示天合光能（688599）新获得一项发明专利授权，专利名为“硅片除杂方法、硅片及其制备方法和应用”，专利申请号为CN202311249792.1，授权日为2025年9月5日。

专利摘要：本发明涉及一种硅片除杂方法、硅片及其制备方法和应用。该硅片除杂方法，包括如下步骤：提供一裸硅片，所述裸硅片具有相对的正面和背面，且均包含机械损伤层；对所述裸硅片的正面进行制绒处理，形成反射率为7％～15％的织构面，制备硅片中间体；对所述硅片中间体进行扩散处理，所述硅片中间体的正面掺杂磷或硼且被二氧化硅包覆，所述硅片中间体的杂质向背面中的机械损伤层迁移聚集，形成外吸杂区且被二氧化硅包覆；去除所述外吸杂区表面的二氧化硅包覆层和所述外吸杂区。该方法具有吸杂效率高、条件温和、操作简单、低成本的优点，将除杂后的硅片用于器件中，能够增加光吸收，提高短路电流、开路电压、填充因子和电池光电转换效率。

今年以来天合光能新获得专利授权417个，较去年同期增加了27.52%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了9亿元，同比增6.6%。

通过天眼查大数据分析，天合光能股份有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目7115次；财产线索方面有商标信息1067条，专利信息4272条，著作权信息113条；此外企业还拥有行政许可42个。

数据来源：天眼查APP

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