通富微电获得发明专利授权：“缺陷定位方法、缺陷分析方法及系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示通富微电（002156）新获得一项发明专利授权，专利名为“缺陷定位方法、缺陷分析方法及系统”，专利申请号为CN202210777146.1，授权日为2025年8月22日。

专利摘要：本申请公开了一种缺陷定位方法、缺陷分析方法及系统，该缺陷定位方法包括：从半导体器件的第一表面一侧获得缺陷区域的第一位置信息；其中，半导体器件包括经过隐形激光切割形成的切割面，半导体器件包括相背设置的第一表面和第二表面，切割面位于第一表面和第二表面之间并与第一表面连接；从第一表面一侧对半导体器件进行多次抛光，并获取每次抛光后半导体器件抛光表面的晶体结构异常区域的第二位置信息；基于第一位置信息、多个第二位置信息和切割面获得缺陷发生起始区域。通过上述方式，本申请能够定位隐形激光切割过程中缺陷发生起始区域，以助于对隐形激光切割过程中的散射缺陷进行分析。

今年以来通富微电新获得专利授权15个，较去年同期增加了7.14%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了15.33亿元，同比增31.96%。

通过天眼查大数据分析，通富微电子股份有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目66次；财产线索方面有商标信息19条，专利信息983条，著作权信息1条；此外企业还拥有行政许可55个。

数据来源：天眼查APP

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